性能特點(diǎn)如下：ETD-2000 Ⅲ 型離子濺射儀是依據二(DC)直流濺射原理設計而成的，*簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟的鍍膜設備。他的特別之處是在個(gè)空室內設計安裝了三個(gè)靶。旋轉樣臺，可以依次在同樣上涂覆三種材料。適用于實(shí)驗室的各種復合膜樣制備，及非導體材料實(shí)驗電制作。
1. 配置有樣濺射室空表和濺射電流表，用以指示、監控儀器狀態(tài)；
2. 濺射電流調整控制器、微型空氣閥。在工作時(shí)結合內部自動(dòng)控制電路很容易控制空室壓強、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體，獲得*佳鍍膜效果；
3. 特殊設計的鐘罩邊緣橡膠密封圈，可保證長(cháng)期使用不會(huì )出現影響樣濺射室空度的玻璃鐘罩“崩邊”現象；
4. 陶瓷密封高壓頭比通常采用橡膠密封的經(jīng)久耐用；
5. 根據電場(chǎng)中氣體電離特性，采用大容量樣濺射空室和相應面積濺射靶，使濺射鍍層均勻純凈。
技術(shù)參數：*配置參數如下：靶（上部電）：直徑：45mm，厚度：0.12mm
空樣室： 直徑：160mm，高：120mm
濺射面積： Ф45mm，三區域
空指示表： *高空度：≤ 4X10-2 mbar
離子電流表： *大電流：50mA
定時(shí)器： *長(cháng)時(shí)間：900S
微型空氣閥： 可連接φ3mm軟管
可通入氣體： 多種
*高電壓： -1600（-3000）DCV
機械泵： 2L/S
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